Реактивне іонне травлення

Gravure ionique réactive - technique de gravure sèche des semi-conducteurs. L'article "Реактивне іонне травлення" sur Wikipédia en ukrainien a 21.6 points pour la qualité (au 1 juillet 2025). L'article contient 5 références et 5 sections.

Dans cette version linguistique de Wikipédia, l'article est de la meilleure qualité. Cependant, la version linguistique la plus populaire de cet article est la langue anglais.

Depuis la création de l'article "Реактивне іонне травлення", son contenu a été rédigé par 1 utilisateurs enregistrés de Wikipédia en ukrainien et édité par 145 utilisateurs Wikipédia enregistrés dans toutes les langues.

L'article est cité 5 fois dans Wikipédia en ukrainien et cité 168 fois dans toutes les langues.

Le rang d’intérêt des auteurs le plus élevé depuis 2001:

• Local (ukrainien): n° 206782 en mars 2022
• Mondial: n° 53732 en juillet 2003

Le classement de popularité le plus élevé depuis 2008:

• Local (ukrainien): n° 253601 en novembre 2023
• Mondial: n° 148818 en avril 2016

Il existe 10 versions linguistiques pour cet article dans la base de données WikiRank (sur les 55 éditions linguistiques Wikipédia considérées).

L'évaluation de la qualité et de la popularité est basée sur les dumps Wikipédia du 1 juillet 2025 (y compris l'historique des révisions et les pages vues des années précédentes).

Le tableau ci-dessous présente les versions linguistiques de l'article de la plus haute qualité.

#	Langue	Niveau de qualité	Score de qualité
1	ukrainien (uk) Реактивне іонне травлення		21.5789
2	anglais (en) Reactive-ion etching		20.153
3	catalan (ca) Gravat d'ions reactius		19.6379
4	russe (ru) Реактивное ионное травление		16.6666
5	finnois (fi) ICP-RIE		14.8603
6	français (fr) Gravure ionique réactive		13.4355
7	allemand (de) Plasma-unterstütztes Ätzen		13.3901
8	persan (fa) زدایش یون-غیرفعال		11.7074
9	japonais (ja) 反応性イオンエッチング		5.4411
10	chinois (zh) 反应离子刻蚀		5.4357

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Le tableau suivant présente les versions linguistiques les plus populaires de l'article.

Les versions linguistiques les plus populaires de l'article "Реактивне іонне травлення" dans tout le temps

#	Langue	Prix de popularité	Popularité relative
1	anglais (en) Reactive-ion etching		658 292
2	japonais (ja) 反応性イオンエッチング		230 390
3	chinois (zh) 反应离子刻蚀		99 697
4	allemand (de) Plasma-unterstütztes Ätzen		66 333
5	français (fr) Gravure ionique réactive		48 160
6	russe (ru) Реактивное ионное травление		35 259
7	finnois (fi) ICP-RIE		6 029
8	persan (fa) زدایش یون-غیرفعال		5 485
9	ukrainien (uk) Реактивне іонне травлення		367
10	catalan (ca) Gravat d'ions reactius		174

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Le tableau suivant présente les versions linguistiques de l'article le plus populaire au cours du mois dernier.

Les versions linguistiques les plus populaires de l'article "Реактивне іонне травлення" en juin 2025

#	Langue	Prix de popularité	Popularité relative
1	anglais (en) Reactive-ion etching		1 915
2	chinois (zh) 反应离子刻蚀		387
3	japonais (ja) 反応性イオンエッチング		297
4	allemand (de) Plasma-unterstütztes Ätzen		119
5	français (fr) Gravure ionique réactive		109
6	russe (ru) Реактивное ионное травление		79
7	persan (fa) زدایش یون-غیرفعال		15
8	catalan (ca) Gravat d'ions reactius		13
9	ukrainien (uk) Реактивне іонне травлення		8
10	finnois (fi) ICP-RIE		5

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Le tableau suivant présente les versions linguistiques de l'article présentant le plus grand intérêt des auteurs.

Versions linguistiques de l'article "Реактивне іонне травлення" présentant le plus grand intérêt des auteurs. Seuls les utilisateurs enregistrés de Wikipédia ont été comptés.

#	Langue	Prox de IA	IA relatif
1	anglais (en) Reactive-ion etching		43
2	allemand (de) Plasma-unterstütztes Ätzen		32
3	français (fr) Gravure ionique réactive		25
4	japonais (ja) 反応性イオンエッチング		15
5	persan (fa) زدایش یون-غیرفعال		8
6	finnois (fi) ICP-RIE		7
7	russe (ru) Реактивное ионное травление		6
8	chinois (zh) 反应离子刻蚀		6
9	catalan (ca) Gravat d'ions reactius		2
10	ukrainien (uk) Реактивне іонне травлення		1

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Le tableau suivant montre les versions linguistiques de l'article ayant suscité le plus grand intérêt des auteurs au cours du mois dernier.

Versions linguistiques de l'article "Реактивне іонне травлення" présentant le plus grand intérêt des auteurs en juin 2025

#	Langue	Prox de IA	IA relatif
1	allemand (de) Plasma-unterstütztes Ätzen		1
2	catalan (ca) Gravat d'ions reactius		0
3	anglais (en) Reactive-ion etching		0
4	persan (fa) زدایش یون-غیرفعال		0
5	finnois (fi) ICP-RIE		0
6	français (fr) Gravure ionique réactive		0
7	japonais (ja) 反応性イオンエッチング		0
8	russe (ru) Реактивное ионное травление		0
9	ukrainien (uk) Реактивне іонне травлення		0
10	chinois (zh) 反应离子刻蚀		0

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Le tableau suivant présente les versions linguistiques de l'article avec le plus grand nombre de citations.

Versions linguistiques de l'article "Реактивне іонне травлення" avec l'indice de citation (IC) le plus élevé

#	Langue	Prix ​​de IC	IC relatif
1	anglais (en) Reactive-ion etching		47
2	japonais (ja) 反応性イオンエッチング		25
3	allemand (de) Plasma-unterstütztes Ätzen		23
4	français (fr) Gravure ionique réactive		21
5	persan (fa) زدایش یون-غیرفعال		17
6	russe (ru) Реактивное ионное травление		15
7	catalan (ca) Gravat d'ions reactius		7
8	chinois (zh) 反应离子刻蚀		7
9	ukrainien (uk) Реактивне іонне травлення		5
10	finnois (fi) ICP-RIE		1

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#	Langue	Valeur
ca	catalan Gravat d'ions reactius
de	allemand Plasma-unterstütztes Ätzen
en	anglais Reactive-ion etching
fa	persan زدایش یون-غیرفعال
fi	finnois ICP-RIE
fr	français Gravure ionique réactive
ja	japonais 反応性イオンエッチング
ru	russe Реактивное ионное травление
uk	ukrainien Реактивне іонне травлення
zh	chinois 反应离子刻蚀

Meilleur rang

ukrainien: n° 253601 11.2023

Mondial: n° 148818 04.2016

Meilleur rang

ukrainien: n° 206782 03.2022

Mondial: n° 53732 07.2003

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